Engros TiNb Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Specialfremstillet producent og leverandør |Rig

Titanium Niobium

TiNb Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet Udvalgt billede

Kort beskrivelse:

Kategori	Alloy Sputtering Target
Kemisk formel	TiNb
Sammensætning	Titanium Niobium
Renhed	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Form	Plader，Søjlemål，buekatoder，Tilpassede
Produktions proces	Vakuumsmeltning, PM
Tilgængelig størrelse	L≤2000mm, B≤200mm

Send e-mail til os

Produktdetaljer

Produkt Tags

Tantal Niobium Sputtering Target Beskrivelse

Titanium Niobium sputtermål fremstilles ved hjælp af vakuumsmeltning eller kraftmetallurgi.Det typiske indhold af titan er 66% (ca. 50 vægt%).Det er et ekstraordinært superledningsmateriale og kan laves til en række sammensatte praktiske materialer ved konventionel deformation og varmebehandlingsproces.

Titanium Niobium Sputtering Target Emballage

Vores Titanium Niobium sputtermål er tydeligt mærket og mærket eksternt for at sikre effektiv identifikation og kvalitetskontrol.Der udvises stor omhu for at undgå enhver skade, der måtte opstå under opbevaring eller transport.

Få kontakt

RSM's Titanium Niobium sputtermål er af ultrahøj renhed og ensartet.De fås i forskellige former, renheder, størrelser og priser.
Vi kunne levere en række geometriske former: rør, bue katoder, plane eller specialfremstillede.Vores produkter har fremragende mekaniske egenskaber, homogen mikrostruktur, poleret overflade uden adskillelse, porer eller revner.

Vi er specialiserede i at producere tyndfilmbelægningsmaterialer med høj renhed med fremragende ydeevne samt den højest mulige tæthed og mindst mulige gennemsnitlige kornstørrelser til brug i formbelægning、dekoration、autodele、low-E glas、halvleder integreret kredsløb、tynd film modstand, grafisk display, rumfart, magnetisk optagelse, berøringsskærm, tyndfilm solcellebatteri og andre fysiske dampaflejringer (PVD) applikationer.Send os venligst en forespørgsel for aktuelle priser på sputtermål og andre aflejringsmaterialer, der ikke er anført.

Tidligere: TiNbZr Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Specialfremstillet

Næste: TiNi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Specialfremstillet