Metalforstøvningsmålmateriale, belægningslegeringsforstøvningsbelægningsmateriale, keramisk forstøvningsbelægningsmateriale, boridkeramiske sputtermålmaterialer, karbidkeramisk sputtermålmateriale, fluoridkeramisk sputtermålmateriale, Nitridkeramiske sputtermålmaterialer, oxidkeramisk mål, Selenidkeramisk sputtermålmateriale, Silicidkeramiske sputtermålmaterialer, sulfidkeramisk sputtermålmateriale, Telluridkeramisk sputtermål, andet keramisk mål, chromdopet siliciumoxidkeramisk mål (CR-SiO), indiumphosphidmål (InP), blyarsenidmål (PbAs), indiumarsenid mål (InAs).
Sputtermålmaterialer med høj renhed og høj tæthed er:
Sputtering målmateriale (renhed: 99,9%-99,999%)
1. Metalmål:
Nikkelmål, Ni, titanmål, Ti, zinkmål, Zn, chrommål, Cr, magnesiummål, Mg, Niobmål, Nb, Tinmål, Sn, aluminiummål, Al, Indiummål, In, Jernmål, Fe, Zirconium-aluminiummål, ZrAl, Titanium-aluminiummål, TiAl, Zirconium-mål, Zr, aluminium-siliciummål, AlSi, siliciummål, Si, kobbermål Cu, tantalmål T, A, Germaniummål, Ge, sølvmål, Ag, kobolt mål, Co, guldmål, Au, gadoliniummål, Gd, lanthanmål, La, yttriummål, Y, ceriummål, Ce, wolframmål, W, mål i rustfrit stål, nikkel-chrommål, NiCr, hafniummål, Hf, molybdænmål, Mo, Fe-Ni mål, FeNi, wolframmål, W osv.
2. Keramisk målmateriale
ITO-målmål, jernoxid, magnesiumoxid-mål, mål, mål, siliciumcarbid siliciumnitrid-titaniumnitrid-målmål, mål, zinksulfid, zinkoxid, chromoxid, siliciumdioxid, mål, mål, mål for et siliciumoxid, ceriumoxidmål, mål, fem zirconiumdioxid oxygen HuaEr niobium target target, target, titanium dioxid, zirconium dioxide, hafnium target, target, titandiborid diborid zirconium target, wolfram trioxid target, Aluminium trioxid target tantal pentaoxid, niobium pentaoxid target, yttriumfluorid target, yttriumfluorid target mål, zinkselenidmål, aluminiumnitridmål, siliciumnitridmål, bornitridmål, titaniumnitridmål, siliciumcarbidmål, lithiumniobatmål, praseodymiumtitanatmål, bariumtitanatmål, lanthantitanatmål, nikkeloxidmål, sputtermål osv. .
Indlægstid: Aug-05-2022