Med den stigende markedsefterspørgsel opdateres flere og flere typer sputtering-mål konstant.Nogle er velkendte og nogle er ukendte for kunderne.Nu vil vi gerne dele med dig, hvad der er typerne af magnetronforstøvningsmål.
Sputtermål har følgende typer: metalforstøvningsbelægningsmål, legeringsforstøvningsbelægningsmål, keramisk forstøvningsbelægningsmål, boridkeramisk sputtermål, karbidkeramisk sputtermål, fluoridkeramisk sputtermål, nitridkeramisk sputtermål, oxidkeramisk mål, selenidkeramisk sputtermål , silicidkeramisk sputtermål, sulfidkeramisk sputtermål, telluridkeramisk sputtermål, andre keramiske mål, kromdoteret siliciumoxidkeramisk mål (CR SiO), indiumphosphidmål (INP), blyarsenidmål (pbas), indiumarsenidmål (InAs) ).
Magnetronforstøvning er generelt opdelt i to typer: DC sputtering og RF sputtering.Princippet for DC-forstøvningsudstyr er enkelt, og dets hastighed er også hurtig, når der forstøvs metal.RF sputtering er meget udbredt.Ud over at sputtere ledende data kan den også sputtere ikke-ledende data.Samtidig udfører sputtermålet også reaktiv sputtering for at fremstille sammensatte data såsom oxider, nitrider og carbider.Hvis RF-frekvensen stiger, vil det blive til mikrobølgeplasmaforstøvning.På nuværende tidspunkt er elektroncyklotronresonans (ECR) mikrobølgeplasmaforstøvning almindeligt anvendt.
Indlægstid: 18. maj 2022