Nogle kunder spurgte om siliciumsputteringsmål.Nu vil kolleger fra RSM Technology Department analysere siliciumsputteringsmål for dig.
Siliciumforstøvningsmål fremstilles ved at sputtere metal fra siliciumbarre.Målet kan fremstilles ved forskellige processer og metoder, herunder galvanisering, sputtering og dampaflejring.Foretrukne udførelsesformer tilvejebringer yderligere yderligere rense- og ætsningsprocesser for at opnå ønskede overfladebetingelser.Det producerede mål er meget reflekterende med en ruhed på mindre end 500 ångstrøm og relativt hurtig brændehastighed.Filmen fremstillet af siliciummålet har et lavt partikelantal.
Siliciumsputteringsmål bruges til at afsætte tynde film på siliciumbaserede materialer.De er almindeligt anvendt i display-, halvleder-, optisk, optisk kommunikation og glasbelægningsapplikationer.De er også velegnede til ætsning af højteknologiske komponenter.N-type siliciumsputteringsmål kan bruges til forskellige formål.Det er anvendeligt til mange områder, herunder elektronik, solceller, halvledere og displays.
Siliciumforstøvningsmålet er et sputtertilbehør, der bruges til at afsætte materialer på overfladen.Normalt består det af siliciumatomer.Sputteringsprocessen kræver præcis mængde materiale, hvilket kan være en stor udfordring.Brug af ideelt forstøvningsudstyr er den eneste måde at fremstille siliciumbaserede komponenter på.Det er værd at bemærke, at siliciumforstøvningsmålet ikke bruges i sputteringsprocessen.
Indlægstid: 24. oktober 2022