Vi ved alle, at sputtering er en af hovedteknologierne til fremstilling af filmmaterialer.Den bruger ionerne produceret af ionkilden til at accelerere aggregeringen i vakuum for at danne en højhastigheds ionstråle, bombardere den faste overflade, og ionerne udveksler kinetisk energi med atomerne på den faste overflade, så atomerne på det faste stof overflade forlader det faste stof og aflejres på underlagets overflade.Det bombarderede faste stof er råmaterialet til afsætning af film ved sputtering, hvilket kaldes sputtering target.
Forskellige typer sputterede filmmaterialer er blevet brugt i vid udstrækning i integrerede halvlederkredsløb, optagemedier, plan skærm, værktøjs- og matriceoverfladebelægning og så videre.
Sputtering-mål bruges hovedsageligt i elektroniske industrier og informationsindustrier, såsom integrerede kredsløb, informationslagring, flydende krystalskærme, laserhukommelser, elektronisk kontroludstyr osv.Det kan også bruges inden for glasbelægning;Det kan også bruges i slidbestandige materialer, højtemperaturkorrosionsbestandighed, avancerede dekorative produkter og andre industrier.
Der er mange slags sputtermål, og der er forskellige metoder til klassificering af mål:
Ifølge sammensætningen kan den opdeles i metalmål, legeringsmål og keramisk sammensatte mål.
I henhold til formen kan den opdeles i langt mål, firkantet mål og rundt mål.
Det kan opdeles i mikroelektronisk mål, magnetisk optagelsesmål, optisk diskmål, ædelmetalmål, filmmodstandsmål, ledende filmmål, overflademodifikationsmål, maskemål, dekorativt lagmål, elektrodemål og andre mål i henhold til anvendelsesområdet.
I henhold til forskellige applikationer kan det opdeles i halvlederrelaterede keramiske mål, optagelse af medium keramiske mål, display keramiske mål, superledende keramiske mål og gigantiske magnetoresistens keramiske mål.
Indlægstid: 29-jul-2022