Med udviklingen af den elektroniske informationsindustri overføres højteknologiske materialer gradvist fra ark til tynd film, og belægningsenheder udvikler sig hurtigt.Målmateriale er et særligt elektronisk materiale med høj merværdi, og det er kilden til sputtering af tyndfilmsmaterialer.Som det grundlæggende materiale til udvikling af ikke-metallisk filmindustri er keramisk målmateriale blevet udviklet uden fortilfælde, og markedsskalaen for målmateriale udvides dag for dag.
Der er to typer keramiske mål:
(1) Ifølge den kemiske sammensætning kan den opdeles i oxidkeramisk mål, silicidkeramisk mål, nitridkeramisk mål, fluoridkeramisk mål og sulfidkeramisk mål osv. Det plane display ITO keramiske mål er blevet bredt produceret og anvendt i Kina.Keramiske mål til højdielektriske isoleringsfilm og keramiske mål med gigantiske magnetoresistens har brede anvendelsesmuligheder.
(2) I henhold til applikationen kan det opdeles i halvlederassocieret keramisk mål, displaykeramisk mål, magnetisk optagelse keramisk mål, optisk optagelse keramisk mål, superledende keramisk mål, kæmpe magnetoresistance keramisk mål osv.
Keramiske mål i den eksisterende komplekse elektroniske produkt fremstilling, kun tegner sig for en lille del af teknik, men har spillet rollen som informationsindustrien grundlæggende pilotmateriale.Indenlandske keramiske plan mål hovedsageligt vælger sintring og bindende proces, kan producere den maksimale længde på 600 mm, den maksimale bredde på 400 mm, den maksimale tykkelse på 30 mm, filet, skrå, trin og anden speciel-formet behandling i henhold til kundens krav.Med den hurtige udvikling af Kinas elektroniske informationsindustri stiger efterspørgslen efter keramisk sputtering mål år for år.I fremtiden er forskning og udvikling af keramiske sputtering-mål et vigtigt emne for Kinas målleverandører.
Indlægstid: 22-jul-2022