Velkommen til vores hjemmesider!

NiW Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Specialfremstillet

Nikkel Tungsten

Kort beskrivelse:

Kategori

Alloy Sputtering Target

Kemisk formel

NiW

Sammensætning

Nikkel Tungsten

Renhed

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Form

Plader,Søjlemål,buekatoder,Tilpassede

Produktions proces

Vakuumsmeltning

Tilgængelig størrelse

L≤2000mm, B≤200mm


Produktdetaljer

Produkt Tags

Nikkel Tungsten Sputtering Targets er fremstillet ved hjælp af vakuumsmeltning.Det har højt smeltepunkt, høj hårdhed og høj korrosionsbestandighed.

Nikkel Tungsten Sputtering Targets er meget udbredt i mekanisk, elektronik, medicinsk udstyr, bildele, rumfart, militær, daglige hardwaredele og industrielle arbejdsformindustrier.NiW-belægninger har overlegen overfladerenhed og fremragende slidstyrke og kan perfekt indlejres i matrixmaterialerne, hvilket kan forbedre egenskaberne og forlænge støbeformens levetid.

Rich Special Materials har specialiseret sig i fremstilling af sputtering Target og kunne producere nikkel wolfram sputtering materialer i henhold til kundernes specifikationer.For mere information, kontakt os venligst.


  • Tidligere:
  • Næste: