Engros MoCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Producent og leverandør |Rig

Molybdæn kobber

MoCu Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet Udvalgt billede

Kort beskrivelse:

Kategori	Alloy Sputtering Target
Kemisk formel	MoCu
Sammensætning	Molybdæn kobber
Renhed	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Form	Plader，Søjlemål，buekatoder，Tilpassede
Produktions proces	PM
Tilgængelig størrelse	L≤200 mm, B≤200 mm

Send e-mail til os

Produktdetaljer

Produkt Tags

Molybdæn Kobberforstøvningsmål fremstilles ved hjælp af infiltrationssintring: Molybdænpulver sintret og formet til halvfabrikata kombineret med en efterfølgende mikrobølgeassisteret vandig opløsningsstrategi.Molybdæn Kobberlegering har enestående fysiske og mekaniske egenskaber: tilfredsstillende elektrisk og termisk ledningsevne, lav og justerbar termisk udvidelseskoefficient, slidstyrke og høj temperaturstyrke.

Sammensætninger (%)	Cu	Mo	Urenhed (%)
MoCu10	10±2	Balance	≤0,1
MoCu15	15±3	Balance	≤0,1
MoCu20	20±3	Balance	≤0,1
MoCu25	25±3	Balance	≤0,1
MoCu40	40±5	Balance	≤0,1

Rich Special Materials har specialiseret sig i fremstilling af sputtering Target og kunne producere molybdæn kobber sputtering materialer i henhold til kundernes specifikationer.For mere information, kontakt os venligst.

Tidligere: MoNi Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet

Næste: NbTi Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet