Engros FeTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Producent og leverandør |Rig

Jerntantal

FeTa Sputtering Target High Purity Tynd Film Pvd Coating Specialfremstillet Udvalgt billede

Kort beskrivelse:

Kategori	Alloy Sputtering Target
Kemisk formel	FeTa
Sammensætning	Jerntantal
Renhed	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Form	Plader，Søjlemål，buekatoder，Tilpassede
Produktions proces	Vakuumsmeltning
Tilgængelig størrelse	L≤200mm, B≤200mm

Send e-mail til os

Produktdetaljer

Produkt Tags

Jern Tantal Sputtering Target Beskrivelse

Jern Tantal legering er et egnet materiale til fordampningskilder, elektronrør, proteseanordninger og ensrettere.Vi anvender avanceret teknik til støbning og hurtig størkning for at opnå Fe-Ta-legering med høj renhed og homogen struktur.Det mål, vi producerer, har fremragende mekaniske egenskaber og kan producere raffinerede overfladelag.

Jerntantalforstøvningsmålemballage

Vores jerntantalsputtermål er tydeligt mærket og mærket eksternt for at sikre effektiv identifikation og kvalitetskontrol.Der udvises stor omhu for at undgå enhver skade, der måtte opstå under opbevaring eller transport.

Få kontakt

RSM's jerntantal-sputtermål er af ultrahøj renhed og ensartet.De fås i forskellige former, renheder, størrelser og priser.

Vi kunne levere en række geometriske former: rør, bue katoder, plane eller specialfremstillede.Vores produkter har fremragende mekaniske egenskaber, homogen mikrostruktur, poleret overflade uden adskillelse, porer eller revner.

Vi er specialiserede i at producere tyndfilmbelægningsmaterialer med høj renhed med fremragende ydeevne samt den højest mulige tæthed og mindst mulige gennemsnitlige kornstørrelser til brug i formbelægning、dekoration、autodele、low-E glas、halvleder integreret kredsløb、tynd film modstand, grafisk display, rumfart, magnetisk optagelse, berøringsskærm, tyndfilm solcellebatteri og andre fysiske dampaflejringer (PVD) applikationer.Send os venligst en forespørgsel for aktuelle priser på sputtermål og andre aflejringsmaterialer, der ikke er anført.

Tidligere: FeNi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Specialfremstillet

Næste: FeCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Specialfremstillet