CrAl Alloy Sputtering Target Høj renhed tyndfilm PVD-belægning specialfremstillet
Krom aluminium
Fremstillingen af chrom-aluminiumsputteringsmål omfatter følgende trin:
1. Pulverformaling og blanding.
2. Varm isostatisk presningsbehandling for at få halvfabrikata.
3. Bearbejdning af det ru krom-aluminiumslegering-forstøvnings-målmateriale for at opnå chrom-aluminium-legering-sputtering-målmaterialet.
Under aflejringsprocessen af CrAl-sputtermål dannes en hård aluminium-krom-nitrid (AlCrN) belægning.Denne belægning udviser egenskaber med høj hårdhed og oxidationsbestandighed selv ved høj temperatur.Fræserne kunne køre med høje tilspændinger for at øge produktiviteten og højne kvaliteten ved brug af CNC-maskiner.
Vores typiske AlCr-mål og deres egenskaber
| Cr-70Alpå% | Cr-60Alpå% | Cr-50Alpå% | |
| Renhed (%) | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 |
| Massefylde(g/cm3） | 3.7 | 4.35 | 4,55 |
| Gregn Størrelse(µm) | 100/50 | 100/50 | 100/50 |
| Behandle | HOFTE | HOFTE | HOFTE |
Rich Special Materials har specialiseret sig i fremstilling af sputtering Target og kunne producere aluminium chrom sputtering materialer i henhold til kundernes specifikationer.Vores produkter har fremragende mekaniske egenskaber, homogen struktur, poleret overflade uden adskillelse, porer eller revner.For mere information, kontakt os venligst.
